发明名称 |
梯度磁场施加方法和设备以及磁共振成像设备 |
摘要 |
为了提供一种用于防止由在观察视场(FOV)外部的磁场引起的人工假像的梯度磁场施加方法和设备,以及使用这种梯度磁场施加设备的磁共振成像设备,在存在梯度磁场的情况下并且在要成像的研究目标内实现原子核自旋的多次射频激发,并且根据由自旋产生的磁共振信号产生一个图像,在第一次射频激发(G90)中至少产生梯度磁场的极性,在下一次射频激发(G180)中梯度磁场的极性和第一次彼此相反。 |
申请公布号 |
CN1209996C |
申请公布日期 |
2005.07.13 |
申请号 |
CN00118762.7 |
申请日期 |
2000.06.26 |
申请人 |
通用电器横河医疗系统株式会社 |
发明人 |
三好光晴;山崎亚纪 |
分类号 |
A61B5/055;G01R33/38;G01R33/48 |
主分类号 |
A61B5/055 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
陈霁;叶恺东 |
主权项 |
1.一种梯度磁场施加方法,包括以下步骤:对放置一个要成像的对象的空间施加一个静磁场;在所述对象的限幅轴方向施加第一限幅梯度磁场的同时,对所述对象施加90°射频脉冲;在所述对象的限幅轴方向施加第二限幅梯度磁场的同时,对所述对象施加180°射频脉冲;以及控制所述第一限幅梯度磁场的极性和所述第二限幅梯度磁场的极性使其彼此相反,并且控制所述第一限幅梯度磁场和所述第二限幅梯度磁场的强度和时间周期使其相同,从而防止只在限幅轴方向出现所述第一限幅梯度磁场和所述第二限幅梯度磁场的受限制的观察视场和由观察视场外部的磁场引起的人工假像。 |
地址 |
日本东京都 |