| 发明名称 | 曝光方法和装置 | ||
| 摘要 | 提供一种曝光方法，其特征在于：包括在被曝光体的表面以及投影光学系统的最终面之间导入液体的步骤；使配置在所述被曝光体的表面以及投影光学系统的最终面之间的所述液体的界面变位的步骤；把在掩膜上形成的图案通过所述投影光学系统以及所述液体投影到所述被曝光体上的步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN1637606A | 申请公布日期 | 2005.07.13 |
| 申请号 | CN200410011486.5 | 申请日期 | 2004.12.24 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 時田俊伸 |
| 分类号 | G03F7/20;H01L21/00 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 许海兰 |
| 主权项 | 1.一种曝光方法，其特征在于包括：在被曝光体的表面以及投影光学系统的最终面之间导入液体的步骤；使配置在所述被曝光体的表面以及投影光学系统的最终面之间的所述液体的界面变位的步骤；把在掩模形成的图案通过所述投影光学系统以及所述液体投影到所述被曝光体上的步骤。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||