发明名称 二氧化硅涂膜形成用组合物、二氧化硅涂膜及其制造方法、以及电子部件
摘要 本发明提供一种二氧化硅涂膜形成用组合物,含有作为(a)组分的烷氧基硅烷等硅氧烷树脂,作为(b)组分的可以溶解该硅氧烷树脂的醇等溶剂,作为(c)组分的铵盐等以及作为(d)组分的受热分解挥发性化合物,具有如下固化性能,在150℃/3分的加热处理下得到的涂膜的应力为10MPa,而且通过最终固化得到的二氧化硅涂膜的比电容率小于3.0。本发明的二氧化硅涂膜形成用组合物,在形成具有低电容率、粘结性的同时可以形成具有很好机械强度的二氧化硅涂膜。
申请公布号 CN1637097A 申请公布日期 2005.07.13
申请号 CN200410097089.4 申请日期 2003.02.26
申请人 日立化成工业株式会社 发明人 樱井治彰;阿部浩一;榎本和宏;野部茂
分类号 C09D183/04;H01L21/316 主分类号 C09D183/04
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人 钟晶
主权项 1.一种二氧化硅类涂膜形成用组合物,其具有:(a)成分:加水分解缩合以下列通式(1)表示的化合物而得到的硅氧烷树脂,R1nSiX4-n (1)式中,R1表示H原子或F原子、或含有B原子、N原子、Al原子、P原子、Si原子、Ge原子或Ti原子的基团、或碳原子数1~20的有机基团,X表示加水分解性基团,n表示0~2的整数,其中,n是2时、各R1可以相同也可以不相同,n是0~2时、各X可以相同也可以不相同;(b)成分:可以溶解所述(a)成分的溶剂;和(c)成分:鎓盐;所述(a)成分,相对于1摩尔Si原子,含有选自H原子、F原子、B原子、N原子、Al原子、P原子、Si原子、Ge原子、Ti原子及C原子组成的群的至少一种原子的总含量比例为大于等于0.20摩尔小于等于0.65摩尔的成分。
地址 日本东京都