Plasma processing apparatus applying coil type electrode,申请号KR20020058341-传众专利搜索

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发明名称	Plasma processing apparatus applying coil type electrode
摘要
申请公布号	KR100500431(B1)	申请公布日期	2005.07.12
申请号	KR20020058341	申请日期	2002.09.26
申请人		发明人
分类号	H05H1/26;(IPC1-7):H05H1/26	主分类号	H05H1/26
代理机构		代理人
主权项
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