发明名称 光纤与光波导之耦合结构
摘要 一种光纤与光波导之耦合结构,用以耦合光纤与光波导区之传输光束,于一基板制作光波导区以及一个以上的辅助对准沟槽,辅助对准沟槽系用以安置光纤,光波导区设有导光路径以及传输端面,传输端面系面对于辅助对准沟槽,导光路径系对准耦合光纤的位置且导光路径的末端切齐于传输端面,传输端面相对于传输光线的行进方向形成不为90度的斜角。
申请公布号 TWI235857 申请公布日期 2005.07.11
申请号 TW093115644 申请日期 2004.06.01
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 杨建成;刘文俊;萧志诚
分类号 G02B6/26 主分类号 G02B6/26
代理机构 代理人
主权项 1.一种光纤与光波导之耦合结构,其特征在于:于一基板形成一光波导区以及一个以上的辅助对准沟槽,该辅助对准沟槽系用以安置一光纤,以耦合该光纤与该光波导区之一传输光线,该光波导区设有一导光路径以及一传输端面,该传输端面系面对于该辅助对准沟槽,该导光路径的末端切齐于该传输端面且该导光路径系对准耦合该光纤的位置,该传输端面相对于该传输光线的行进方向形成不为90度的一斜角。2.如申请专利范围第1项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该辅助对准沟槽与该光纤的断面系平行于该传输端面。3.如申请专利范围第1项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该斜角系为70度以上,且小于90度。4.如申请专利范围第3项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该斜角系为82度。5.如申请专利范围第1项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该斜角系为负70度以下,且大于负90度。6.如申请专利范围第5项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该斜角系为负82度。7.如申请专利范围第1项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该传输端面,系经由实施一光微影制程所形成。8.如申请专利范围第1项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该传输端面,系经由实施一面加工制程所形成。9.如申请专利范围第1项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该传输端面,系经由实施一体加工制程所形成。10.一种光纤与光波导之耦合结构,系形成于一矽基板,其包含有:一光输入区,具有一第一辅助对准沟槽以安置一输入光纤以传递一输入光,该光输入区并具有一输入端面,该第一辅助对准沟槽与该输入光纤的断面皆切齐于该输入端面;一光输出区,具有复数个第二辅助对准沟槽以安置复数个输出光纤,以承接复数个输出光,光输出区具有一承接端面,该第二辅助对准沟槽与该输出光纤的断面皆切齐该承接端面;及光波导区,系设置复数个导光路径以将自该光输入区所接收的该输入光分为多个该输出光传送至该光输出区,该光波导区具有一第一传输端面与一第二传输端面,且该导光路径的两端分别切齐于该第一传输端面与该第二传输端面,各该导光路径系对准耦合该光纤的位置,该第一传输端面与该第二传输端面相对于光行进方向形成不为90度的一斜角。11.如申请专利范围第10项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该输入端面与该承接端面系平行于该传输端面。12.如申请专利范围第10项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该斜角系为70度以上,且小于90度。13.如申请专利范围第12项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该斜角系为82度。14.如申请专利范围第10项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该斜角系为负70度以下,且大于负90度。15.如申请专利范围第14项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该斜角系为负82度。16.如申请专利范围第10项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该输入端面、该承接端面与该传输端面,系经由实施一光微影制程所形成。17.如申请专利范围第10项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该输入端面、该承接端面与该传输端面,系经由实施一面加工制程所形成。18.如申请专利范围第10项所述之光纤与光波导之耦合结构,其中该输入端面、该承接端面与该传输端面,系经由实施一体加工制程所形成。图式简单说明:第1图为本发明第一实施例之示意图;及第2图为本发明第二实施例之示意图。
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号
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