发明名称 薄膜图案化配置
摘要 一种薄膜图案化配置(6),其包含一基板(1)及经排列以将该基板(1)之一表面分割为子区域(5)的障壁(3)。该表面由聚合材料构成,且涂布有一至少部分无机之涂层(2)。薄膜材料(4)较佳沈积于该薄膜图案化配置(6)之上。
申请公布号 TWM270607 申请公布日期 2005.07.11
申请号 TW093211194 申请日期 2004.07.15
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 宝路斯 卡立尼司 渡内佛德;彼得 珍 史拉克佛
分类号 H05K1/03;H01L21/36 主分类号 H05K1/03
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种薄膜图案化配置(6),其包含一基板(1)及经排 列以将该基板(1)之一表面分割成子区域(5)的障壁( 3),其特征在于至少该表面系由聚合材料构成,且该 表面至少部分涂布有一至少部分无机之涂层(2)。 2.如请求项1之配置(6),其中该至少部分无机之涂层 (2)包含100%之无机材料。 3.如请求项1之配置(6),其中该至少部分无机之涂层 (2)包含至少5%之无机材料。 4.如请求项1至3中任一项之配置(6),其中该至少部 分无机之涂层(2)包含至少两种独立的涂层材料。 5.如请求项1至3中任一项之配置(6),其中在一表面 处理之后,在该至少部分无机之涂层(2)之该表面与 该等障壁(3)之该等表面之间建立至少为10度的前 进接触角之差异。 6.如请求项1至3中任一项之配置(6),其中该至少部 分无机之涂层(2)为超过70%透明。 7.一种薄膜装置,其包含如请求项1至3中任一项之 薄膜图案化配置(6),且进一步包含沈积于该等子区 域(5)之至少部分上之薄膜材料(4)。 8.如请求项7之薄膜装置,其中该薄膜材料(4)形成选 自由光学图案、导体图案、绝缘体图案、半导体 图案及其组合所构成之群的至少一薄膜图案。 9.如请求项8之薄膜装置,其中该薄膜图案为一光学 图案且该装置为一彩色滤光器。 10.一种包含如请求项7之薄膜装置之显示装置。 11.一种包含如请求项8至9中任一项之薄膜装置之 显示装置。 图式简单说明: 图1说明了一薄膜图案化配置之透视图。 图2说明了图1之该配置之剖示图。
地址 荷兰