| 主权项 |
1.一种验证光罩的方法,包括: a.将该光罩的图案转移到一晶圆上; b.找出该光罩上的一异常图形,并求得其座标; c.定义涵盖该异常图形在内的一光罩区域,并取得 该光罩区域的座标; d.在该晶圆上任选一曝光区(shot),并取得该曝光区 中与该光罩区域对应之一晶圆区域的座标; e.依据该光罩上之该异常图形的座标、该光罩区 域的座标以及该晶圆区域的座标,计算该曝光区中 可能有对应于该光罩上之该异常图形的一异常图 形的位置;以及 f.确认该曝光区中的该位置是否有对应于该光罩 上之该异常图形的一异常图形。 2.如申请专利范围第1项所述之验证光罩的方法,其 中步骤b及c系使用一光罩检测机来进行。 3.如申请专利范围第1项所述之验证光罩的方法,其 中步骤d及f系使用一关键尺寸扫描式电子显微镜( CD-SEM)来进行。 4.如申请专利范围第1项所述之验证光罩的方法,其 中该光罩区域及对应之该晶圆区域皆为一矩形区 域。 5.如申请专利范围第4项所述之验证光罩的方法,其 中步骤c所取得之该光罩区域的座标系为其二对角 端点的座标,且步骤d所取得之该晶圆区域的座标 亦为其二对角端点的座标。 6.如申请专利范围第5项所述之验证光罩的方法,其 中该光罩上之该异常图形的座标为(X4,Y4),步骤c系 取得该光罩区域的左下角端点座标(X1,Y1)及右上角 端点座标(X2,Y2),且步骤d系取得该晶圆区域的左下 角端点座标(A1,B1)及右上角端点座标(A2,B2),而该晶 圆区域中可能有对应之异常图形的位置系由该5座 标(X4,Y4)、(X1,Y1)、(X2,Y2)、(A1,B1)及(A2,B2)计算而得 。 7.如申请专利范围第6项所述之验证光罩的方法,其 中计算该晶圆区域中可能有对应之异常图形的位 置(A4,B4)的方法包括: 计算该光罩区域之中心点的座标(X3,Y3),其中X3=(X1+X 2)/2,Y3=(Y1+Y2)/2; 求出该光罩区域之一X轴映射镜像区域的左下角端 点座标(X5,Y5)及右上角端点座标(X6,Y6),其中X5=X1、Y5 =Y1、X6=X2且Y6=Y2; 计算该光罩区域中之该异常图形的X轴映射镜像的 座标(X7,Y7),其中X7=X4,且Y7=Y4-2(Y4-Y3); 计算该光罩区域与该晶圆区域的X方向缩放比例MX= (A2-A1)/(X2-X1)及Y方向缩放比例MY=(B2-B1)/(Y2-Y1);以及 计算A4及B4,其中 A4=A1+MX(X7-X5),且B4=B1+MY(Y7-Y5)。 8.一种验证光罩的方法,包括: a.将该光罩的图案转移到一晶圆上; b.找出该光罩上的一异常图形,并求得其座标(X4,Y4) ; c.定义涵盖该异常图形在内的一矩形光罩区域,并 取得该矩形光罩区域的二对角端点的座标,包括左 下角端点座标(X1,Y1)及右上角端点座标(X2,Y2); d.在该晶圆上任选一曝光区(shot),并取得该曝光区 中与该矩形光罩区域对应之一矩形晶圆区域的二 对角端点的座标,包括左下角端点座标(A1,B1)及右 上角端点座标(A2,B2); e.依据该5座标(X4,Y4)、(X1,Y1)、(X2,Y2)、(A1,B1)及(A2,B2 ),计算该曝光区中可能有对应于该光罩上之该异 常图形的一异常图形的位置(A4,B4);以及 f.确认该曝光区中的该位置是否有对应于该光罩 上之该异常图形的一异常图形, 其中,步骤e包括: 计算该矩形光罩区域之中心点的座标(X3,Y3),其中X3 =(X1+X2)/2,Y3=(Y1+Y2)/2; 求出该矩形光罩区域之一X轴映射镜像区域的左下 角端点座标(X5,Y5)及右上角端点座标(X6,Y6),其中X5=X 1、Y5=Y1、X6=X2且Y6=Y2; 计算该矩形光罩区域中之该异常图形的X轴映射镜 像的座标(X7,Y7),其中X7=X4,且Y7=Y4-2(Y4-Y3); 计算该矩形光罩区域与该矩形晶圆区域的X方向缩 放比例MX=(A2-A1)/(X2-X1)及Y方向缩放比例MY=(B2-B1)/(Y2- Y1);以及 计算A4及B4,其中 A4=A1+MX(X7-X5),且B4=B1+MY(Y7-Y5)。 9.如申请专利范围第8项所述之验证光罩的方法,其 中步骤b及c系使用一光罩检测机来进行。 10.如申请专利范围第8项所述之验证光罩的方法, 其中步骤d及f系使用一关键尺寸扫描式电子显微 镜(CD-SEM)来进行。 11一种验证光罩的方法,包括: a.将该光罩上的图案转移到一晶圆上; b.找出该晶圆上多个曝光区之相同位置皆有的一 异常图形; c.求得该异常图形的座标; d.定义涵盖该异常图形在内的一晶圆区域,并取得 该晶圆区域的座标; e.取得该光罩上对应该晶圆区域之一光罩区域的 座标; f.依据该晶圆上之该异常图形的座标、该晶圆区 域的座标以及该光罩区域的座标,计算该光罩上可 能有对应于该晶圆上之该异常图形的一异常图形 的位置;以及 g.确认该光罩之该位置是否有对应于该晶圆之该 异常图形的一异常图形。 12.如申请专利范围第11项所述之验证光罩的方法, 其中步骤b系使用一晶圆检测机来进行。 13.如申请专利范围第11项所述之验证光罩的方法, 其中步骤c及d系使用一关键尺寸扫描式电子显徵 镜(CD-SEM)来进行。 14.如申请专利范围第11项所述之验证光罩的方法, 其中步骤e及g系使用一光罩检测机来进行。 15.如申请专利范围第11项所述之验证光罩的方法, 其中该晶圆区域及对应之该光罩区域皆为一矩形 区域。 16.如申请专利范围第15项所述之验证光罩的方法, 其中步骤d所取得之该晶圆区域的座标为其二对角 端点的座标,且步骤e所取得之该光罩区域的座标 亦为其二对角端点的座标。 17.如申请专利范围第16项所述之验证光罩的方法, 其中该晶圆上之该异常图形的座标为(A4,B4),步骤d 系取得该晶圆区域的左下角端点座标(A1,B1)及右上 角端点座标(A2,B2),且步骤e系取得该光罩区域的左 下角端点座标(X1,Y1)及右上角端点座标(X2,Y2),而该 光罩区域中可能有对应之异常图形的位置系由该5 座标(A4,B4)、(A1,B1)、(A2,B2)、(X1,Y1)及(X2,Y2)计算而 得。 18.如申请专利范围第17项所述之验证光罩的方法, 其中计算该光罩区域中可能有对应之异常图形的 位置(X4,Y4)的方法包括: 计算该光罩区域之中心点的座标(X3,Y3),其中X3=(X1+X 2)/2,Y3=(Y1+Y2)/2; 求出该光罩区域之一X轴映射镜像区域的左下角端 点座标(X5,Y5)及右上角端点座标(X6,Y6),其中X5=X1、Y5 =Y1、X6=X2且Y6=Y2; 计算该光罩区域与该晶圆区域的X方向缩放比例MX= (A2-A1)/(X2-X1)及Y方向缩放比例MY=(B2-B1)/(Y2-Y1); 计算可能存在于该光罩区域中的「对应于该晶圆 上之该异常图形的」异常图形的X轴映射镜像的座 标(X7,Y7),其中X7=X5+(A4-A1)/MX,且Y7=Y5+(B4-B1)/MY;以及 计算X4及Y4,其中 X4=X7,且Y4=2Y3-Y7。 19.一种验证光罩的方法,包括: a.将该光罩上的图案转移到一晶圆上; b.找出该晶圆上多个曝光区之相同位置皆有的一 异常图形; c.求得该异常图形的座标(A4,B4); d.定义涵盖该异常图形在内的一矩形晶圆区域,并 取得该矩形晶圆区域的二对角端点的座标,包括左 下角端点座标(A1,B1)及右上角端点座标(A2,B2); e.取得该光罩上对应该矩形晶圆区域之一矩形光 罩区域的二对角端点的座标,包括左下角端点座标 (X1,Y1)及右上角端点座标(X2,Y2); f.依据该5座标(A4,B4)、(A1,B1)、(A2,B2)、(X1,Y1)及(X2,Y2 ),计算该光罩上可能有对应于该晶圆上之该异常 图形的一异常图形的位置(X4,Y4);以及 g.确认该光罩之该位置是否有对应于该晶圆之该 异常图形的一异常图形, 其中,步骤f包括: 计算该矩形光罩区域之中心点的座标(X3,Y3),其中X3 =(X1+X2)/2,Y3=(Y1+Y2)/2; 求出该矩形光罩区域之一X轴映射镜像区域的左下 角端点座标(X5,Y5)及右上角端点座标(X6,Y6),其中X5=X 1、Y5=Y1、X6=X2且Y6=Y2; 计算该矩形光罩区域与该矩形晶圆区域的X方向缩 放比例MX=(A2-A1)/(X2-X1)及Y方向缩放比例MY:(B2-B1)/(Y2- Y1); 计算可能存在于该矩形光罩区域中的「对应于该 晶圆上之该异常图形的」异常图形的X轴映射镜像 的座标(X7,Y7),其中X7=X5+(A4-A1)/MX,且Y7=Y5+(B4-B1)/MY;以 及 计算X4及Y4,其中 X4=X7,且Y4=2Y3-Y7。 20.如申请专利范围第19项所述之验证光罩的方法, 其中步骤b系使用一晶圆检测机来进行。 21.如申请专利范围第19项所述之验证光罩的方法, 其中步骤c及d系使用一关键尺寸扫描式电子显微 镜(CD-SEM)来进行。 22.如申请专利范围第19项所述之验证光罩的方法, 其中步骤e及g系使用一光罩检测机来进行。 图式简单说明: 图1为本发明第一实施例之光罩验证方法的流程图 。 图2A、2B绘示本发明第一实施例之光罩验证方法的 一个实例。 图3为本发明第二实施例之光罩验证方法的流程图 。 图4A、4B绘示本发明第二实施例之光罩验证方法的 一个实例。 |
