| 主权项 |
1.一种微细构造物之制造方法,其特征为具备: 对形成图案之部材使用液状材料,预计形成所望形 状之图案之前记部材的被处理面上,设置亲液膜之 工程;及 在前记亲液膜的上面,设置对前记液状材料具有疏 液性的疏液膜之工程;及 将前记疏液膜中,对应于前记预计形成图案领域之 部份的前记疏液膜去除之工程; 前记疏液膜和前记亲液膜之结合力,系小于前记部 材和前记疏液膜之结合力。 2.如申请专利范围第1项的微细构造物之制造方法, 其中 前记亲液膜,为对前记液体材料具有亲液性之亲液 膜。 3.如申请专利范围第1项的微细构造物之制造方法, 其中 前记亲液膜,系在前记疏液膜去除处理进行时,充 当抑制对前记被处理面所赋予之损伤之牺牲层而 发挥机能。 4.如申请专利范围第1项的微细构造物之制造方法, 其中 前记亲液膜,系在前记被处理面上形成图案时,充 当抑制该图案之特性劣化或该图案与该被处理面 间之密着性劣化的至少一种之牺牲层而发挥机能 。 5.如申请专利范围第1项的微细构造物之制造方法, 其中 前记疏液膜,系藉由受到电磁波照射而转为活性化 或挥发化的活性膜。 6.如申请专利范围第1项的微细构造物之制造方法, 其中复具备 针对位于前记亲液膜中预计形成前记图案的领域 上方的部份,在将前记疏液去除后,将前记亲液膜 去除之工程。 7.如申请专利范围第6项的微细构造物之制造方法, 其中 前记亲液膜的去除,系藉由电磁波照射而进行。 8.一种微细构造物之制造方法,其特征为具备: 在预计形成所望形状之图案的被处理面上,设置亲 液膜之工程;及 在前记亲液膜的上面,设置对形成前记图案之部材 的液体材料具有疏液性之疏液膜的工程;及 针对前记疏液膜中预计形成前记图案之领域的边 界部份去除前记疏液膜之工程; 前记疏液膜和前记亲液膜之结合力,系小于前记部 材和前记疏液膜之结合力。 9.如申请专利范围第8项的微细构造物之制造方法, 其中复具备 将预计形成前记图案之领域的边界部份之前记亲 液膜去除之工程。 10.如申请专利范围第8项的微细构造物之制造方法 ,其中 前记亲液膜,系充当促进前记疏液膜之分解之分解 促进层而发挥机能。 11.一种微细构造物之制造方法,其特征为具备: 在预计形成所望形状图案之部材的被处理面上,设 置对用来形成该图案之液体材料具有亲液性之亲 液膜的工程;及 在前记亲液膜的上面,设置促进对前记液体材料具 有疏液性之疏液膜分解之分解促进层之工程;及 在前记分解促进层上面,设置对前记液体材料具有 疏液性之疏液膜之工程;及 针对前记疏液膜中位于预计形成前记图案的领域 上的部份,从前记分解促进层之界面去除前记疏液 膜之工程。 12.如申请专利范围第11项的微细构造物之制造方 法,其中 前记疏液膜的去除,系藉由于该疏液膜中预计形成 前记图案之领域上照射电磁波而进行。 13.如申请专利范围第12项的微细构造物之制造方 法,其中 在去除了前记疏液膜之领域上,充填前记液体材料 ,并针对该液体材料,至少进行乾燥或烧成,以使该 液体材料充填领域形成图案。 14.一种装置,其特征为使用申请专利范围第12项之 微细构造物之制造方法所制造。 15.一种电子机器,其特征为具备申请专利范围第14 项之装置。 16.如申请专利范围第1项的微细构造物之制造方法 ,其中 前记亲液膜,系充当促进前记疏液膜分解之分解促 进层而发挥机能。 17.如申请专利范围第1项的微细构造物之制造方法 ,其中 在去除了前记疏液膜之领域上,充填前记液体材料 ,并针对该液体材料,至少进行乾燥或烧成,以使该 液体材料充填领域形成图案。 18.一种装置,其特征为使用申请专利范围第1项之 微细构造物之制造方法所制造。 图式简单说明: 图1:本发明实施形态所论微细构造物之制造方法 的模式剖面图。 图2:同上之制造方法所得之疏液膜的去除速度提 升的实验结果图。 图3:亲液膜形成装置的一例的概念图。 图4:疏液处理装置的一例的概念图。 图5:图案化装置的一例的概念图。 图6:毛细涂覆(cap coat)方式之涂布方法的模式剖面 图。 图7:本发明之实施形态所论之彩色滤光片的制造 方法。 图8:基板与基板上的彩色滤光片领域之部份图示 。 图9:具备使用本发明所制造之彩色滤光片之液晶 面板的剖面图。 图10:(a)~(i)系制造彩色滤光片之一例图。 图11:适用本发明之制造方法的有机EL装置的剖面 图。 图12:具备本实施形态之光学元件的电子机器之一 例图。 图13:具备本实施形态之光学元件的电子机器之一 例图。 图14:具备本实施形态之光学元件的电子机器之一 例图。 |
