发明名称 |
METHOD FOR MINIMIZING DEFOCUS BY LEVELING DURING EXPOSURE OF WAFER EDGE DIE |
摘要 |
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申请公布号 |
KR20050072348(A) |
申请公布日期 |
2005.07.11 |
申请号 |
KR20040000745 |
申请日期 |
2004.01.06 |
申请人 |
HYNIX SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
LEE, HONG GOO;BANG, CHANG JIN |
分类号 |
H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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