发明名称 NOZZLE CLEANING UNIT OF A PHOTORESIST COATING APPARATUS
摘要
申请公布号 KR20050070974(A) 申请公布日期 2005.07.07
申请号 KR20030101687 申请日期 2003.12.31
申请人 LG.PHILIPS LCD CO., LTD. 发明人 HWANG, SUNG TAE
分类号 G02F1/13 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人
主权项
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