| 发明名称 |
METHOD AND DEVICE FOR CLEANING AT LEAST ONE PROCESS CHAMBER USED FOR COATING AT LEAST ONE SUBSTRATE |
| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Reinigen wenigstens einer Prozesskammer (7) zum Beschichten wenigstens eines Substrats (3), insbesondere aus Glas, wobei die wenigstens eine Prozesskammer (7) vor einem Beschichtungsvorgang mit einem konditionierten Spülgas (15) gespült wird.</p> |
| 申请公布号 |
WO2005061132(A1) |
申请公布日期 |
2005.07.07 |
| 申请号 |
WO2004EP00250 |
申请日期 |
2004.01.15 |
| 申请人 |
WIESSNER GMBH;HEPPER, RONALD;KALLEE, KLAUS |
发明人 |
HEPPER, RONALD;KALLEE, KLAUS |
| 分类号 |
C03C17/00;B08B7/00;C23C14/56;C23C16/44;(IPC1-7):B08B7/00;B01D24/00;H01L21/321 |
主分类号 |
C03C17/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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