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Zur Herstellung besonders gleichmäßiger und hochglänzender sowie eingeebneter und duktiler Kupferüberzüge bei Anwendung einer relativ hohen Stromdichte werden halogenierte oder pseudohalogenierte monomere Phenaziniumverbindungen mit der allgemeinen chemischen Formel I in einer Reinheit von mindestens 85 Mol-% eingesetzt, in der R·1·, R·2·, R·4·, R·5·, R·6·, R·7'·, R·7''·, R·8·, R·9·, X und A·-· die in den Patentansprüchen angegebenen Bedeutungen haben. Die Verbindungen werden hergestellt, indem eine geeignete Ausgangsverbindung diazotiert und anschließend in Gegenwart von Mineralsäure, Diazotierungsmittel und Halogenid oder Pseudohalogenid halogeniert bzw. pseudohalogeniert wird, wobei die Reaktionsschritte in einem einzigen Behälter durchgeführt werden. DOLLAR F1
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