LOW FOAMING DEVELOPER FOR RADIATION SENSITIVE COMPOSITION,申请号KR20030099760-传众专利搜索

发明名称	LOW FOAMING DEVELOPER FOR RADIATION SENSITIVE COMPOSITION
摘要
申请公布号	KR20050070345(A)	申请公布日期	2005.07.07
申请号	KR20030099760	申请日期	2003.12.30
申请人	DONGWOO STI CO., LTD.;DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.	发明人	CHOI, YOUNG KOOK;YANG, MIN SOO;LIM, DAE SUNG;LEE, KYOUNG MO;LEE, GA YEON;CHOI, SUN MI;KIM, SANG TAE;CHON, SUNG HYUN;LEE, JONG CHAN;JI, GEUN WANG
分类号	G03F7/004;(IPC1-7):G03F7/004	主分类号	G03F7/004
代理机构		代理人
主权项
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