| 发明名称 |
OPTICAL ATTENUATOR DEVICE, RADIATION SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS THEREWITH AND DEVICE MANUFACTURING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050069916(A) |
申请公布日期 |
2005.07.05 |
| 申请号 |
KR20040116375 |
申请日期 |
2004.12.30 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
LUIJKX CORNELIS PETRUS ANDREAS MARIE;BANINE VADIM YEVGENYEVICH;BOTMA HAKO;VANDUIJNHOVEN MARTINUS;EURLINGS MARKUS FRANCISCUS ANTONIUS;KRIKKE JAN JAAP;MULDER HEINE MELLE;MUIJDERMAN JOHANNES HENDRIK EVERHARDUS ALDEGONDA;VANDUIJN CORNELIS JACOBUS |
| 分类号 |
G02B26/02;G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G02B26/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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