| 发明名称 |
METHOD FOR FABRICATING THE CONTACT HOLE FOR DUAL DAMASCENE INTERCONNECTION IN SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050069583(A) |
申请公布日期 |
2005.07.05 |
| 申请号 |
KR20030101793 |
申请日期 |
2003.12.31 |
| 申请人 |
DONGBU ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
LEE, KANG HYUN |
| 分类号 |
H01L21/28;H01L21/20;H01L21/4763;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/28 |
主分类号 |
H01L21/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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