发明名称 | 一种制作双镶嵌式铜导线的方法 | ||
摘要 | 本发明系提供一种于基底之上制作导线的方法,该基底包含有导电区域,绝缘层设置于该基底之上,且该绝缘层中包含有暴露出该导电区域之凹槽。首先于该绝缘层与该凹槽之表面形成阻障层,再于该阻障层之表面形成连续且均匀之导电层,接着于该导电层之表面形成晶种层,最后于该晶种层之表面形成完全填满该凹槽之金属层。 | ||
申请公布号 | TW200522258 | 申请公布日期 | 2005.07.01 |
申请号 | TW092135940 | 申请日期 | 2003.12.18 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 胡绍中;杨玉如;黄建中;洪宗佑 |
分类号 | H01L21/768 | 主分类号 | H01L21/768 |
代理机构 | 代理人 | 许锺迪 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |