发明名称 一种制作双镶嵌式铜导线的方法
摘要 本发明系提供一种于基底之上制作导线的方法,该基底包含有导电区域,绝缘层设置于该基底之上,且该绝缘层中包含有暴露出该导电区域之凹槽。首先于该绝缘层与该凹槽之表面形成阻障层,再于该阻障层之表面形成连续且均匀之导电层,接着于该导电层之表面形成晶种层,最后于该晶种层之表面形成完全填满该凹槽之金属层。
申请公布号 TW200522258 申请公布日期 2005.07.01
申请号 TW092135940 申请日期 2003.12.18
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 胡绍中;杨玉如;黄建中;洪宗佑
分类号 H01L21/768 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人 许锺迪
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号