发明名称 一种用于基板之各异向性蚀刻之非结晶蚀刻停止
摘要 本发明描述藉由向一基板内植入电中性元素而形成非结晶蚀刻停止层之方法。若该等元素扩散至该基板内的其它区域,则使用该基板内之电中性元素来防止该等元素之电干扰。该非结晶蚀刻停止层可在电晶体或诸如悬臂支架之其它装置的制造中用作硬式遮罩。
申请公布号 TW200522196 申请公布日期 2005.07.01
申请号 TW093114529 申请日期 2004.05.21
申请人 英特尔公司 发明人 史帝夫 卡汀;克利斯 亚斯
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国