发明名称 薄膜形成装置及薄膜形成装置之洗净方法
摘要 本发明提供一种可去除附着于装置内部之附着物,并使装置内部平坦化之薄膜形成装置之洗净方法及薄膜形成装置。本发明之热处理装置1之控制部100于装置内部附着有附着物时,则将反应管2内加热至特定之温度,并自处理气体导入管17供给洗净气体,去除附着物。继而,将反应管2内保持在室温,并自处理气体导入管17供给含氟化氢之气体。
申请公布号 TW200522165 申请公布日期 2005.07.01
申请号 TW093124557 申请日期 2004.08.16
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 长谷部一秀;冈田充弘;小番弘道
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本