发明名称 | 薄膜形成装置及薄膜形成装置之洗净方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种可去除附着于装置内部之附着物,并使装置内部平坦化之薄膜形成装置之洗净方法及薄膜形成装置。本发明之热处理装置1之控制部100于装置内部附着有附着物时,则将反应管2内加热至特定之温度,并自处理气体导入管17供给洗净气体,去除附着物。继而,将反应管2内保持在室温,并自处理气体导入管17供给含氟化氢之气体。 | ||
申请公布号 | TW200522165 | 申请公布日期 | 2005.07.01 |
申请号 | TW093124557 | 申请日期 | 2004.08.16 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 长谷部一秀;冈田充弘;小番弘道 |
分类号 | H01L21/205 | 主分类号 | H01L21/205 |
代理机构 | 代理人 | 陈长文 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |