| 摘要 |
本发明系提供一种适用于涂布后、显像后、剥离后之杂质少，特别是显像后之图型轮廓形状优异之光阻材料，化学增幅正型光阻材料之磺醯基重氮甲烷化合物及光酸产生剂，及使用这些之光阻材料及图型之形成方法。本发明系提供以下述一般式(1)所示之磺醯基重氮甲烷化合物，含有该磺醯基重氮甲烷化合物所成之光酸产生剂。本发明提供(A)以酸之作用使对硷性显像液之溶解性产生变化的树脂及(B)藉由辐射线照射产生酸之上述一般式(1)所示之磺醯基重氮甲烷化合物所成之化学增幅正型光阻材料。本发明系提供含有：将此光阻材料涂布于基板上的步骤，其次进行加热处理之步骤，曝光步骤，其后必要时加热处理后，使用显像液之步骤所成之图型之形成方法。093125831-p01.bmp |
