| 摘要 |
本发明系提出一种溅镀靶材的制造方法，此方法系经由真空感应熔炼(Vacuum Induction Melting，简称VIM)制程及真空电弧精炼(Vacuum Arc Remelting，简称VAR)制程，产生合金钴铬(CoCr)或是添加选自镍、钽、铂、硼、矽、锌、钛、钐、铌、磷、铑、钯、钪、锆、铁、铪、铼等一种以上不同金属所形成之合金，不须后续之锻造加工，直接将VAR铸造成型后之铸锭切削成溅镀用靶材，此制造方法在目前靶材市场未有相同的概念被提出。此制程适用于光电产业及半导体产业用高品质靶材之生产，其量产性高、成品率高、能有效降低生产成本，且靶材品质优良均一。 |
