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发明名称
一种空间布膜结构及其制造方法
摘要
本发明系有关于一种空间布膜结构及其制造方法,其系揭露一种空间布膜之结构,其中包含一立体空间织物,该立体空间织物系透过复数个中间连接纤维将一上、下纤维组织层撑开,以形成一本发明之空气夹层,用以实施其抗冲击、隔温、导热、透气与弹性强度,并使用至少一高分子膜以黏着于该立体空间织物之至少一表面,以形成较佳之遮蔽、隔离或环境阻抗能力,并使用一低压固着之制程,将该高分子膜贴合该立体空间织物,透过该制程于制品上可获得较佳之空气夹层间距。
申请公布号
TW200520949
申请公布日期
2005.07.01
申请号
TW092137198
申请日期
2003.12.26
申请人
财团法人中国纺织工业研究中心
发明人
陈宏恩;陈述亨;曾靖惠;王近年
分类号
B32B27/14
主分类号
B32B27/14
代理机构
代理人
蔡秀玫
主权项
地址
台北县土城市承天路6号
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