| 主权项 |
1.一种足底按摩垫体改良,尤指提供加置于鞋具穿戴鞋面之按摩垫体,表面经由脚足踩压形成角向变换,及产生相对反作用力,而达扩展性之按摩垫体,其主要系由一挠性层体,上下幅面同轴对称安排有一组以上之按摩压枳,该按摩压枳上下为具有圆凸面。2.如申请专利范围第1项所述之足底按摩垫体改良,其中该层体可设有穿孔,提供压枳所设腰槽嵌扣。3.如申请专利范围第1项所述之足底按摩垫体改良,其中该压枳,进一步可利用上下二半形压枳同轴对合构成。4.如申请专利范围第3项所述之足底按摩垫体改良,其中该压枳对合面中央位置设有半月形榫头。5.如申请专利范围第3项所述之足底按摩垫体改良,其中该压枳对合面中央设有半月形榫槽。6.如申请专利范围第1或3项所述之足底按摩垫体改良,其中该压枳为陶瓷材质。7.如申请专利范围第1或3项所述之足底按摩垫体改良,其中该压枳圆凸表面,为具有远红外线转换涂层。8.如申请专利范围第1或3项所述之足底按摩垫体改良,其中该压枳中心内含有磁激元件。图式简单说明:第1图系为本创作按摩垫体立体外观图。第2图系为本创作压枳与层体结合侧视图。第3图系为本创作压枳提供使用就位关系示意图。第4图系为本创作压枳使用过程中形成偏摆动作示意图。第5图系为本创作实施压枳之立体图。第6图系为本创作压枳构合关系图。第7图系为本创作压枳组合示意图。第8图系为本创作压枳可提供含纳其他元件之示意图。第9图系为本创作实施之垫体形成配对示意图。 |
