| 主权项 |
1.一种光阻供应系统,系应用于一半导体制程中,其包含:一光阻瓶,其具有一输入端以通入一惰性气体,及一输出端可于该惰性气体加压而输出一光阻液;以及一第一过滤器,与该光阻瓶之该输出端连接,且该第一过滤器之一最底点具有一排出口以滤除该光阻液中所沈淀之杂质,其中该第一过滤器包括:一扰流装置,其位于该第一过滤器内,系由复数个循环闸所组成;以及复数个排气闸,其位于该等循环闸之出口,用以排除该第一过滤器内之气泡。2.如申请专利范围第1项所述之光阻供应系统,其中该惰性气体系指一氮气(N2)。3.如申请专利范围第1项所述之光阻供应系统,其中该光阻液中所沈淀之杂质系为一种粒子。4.如申请专利范围第1项所述之光阻供应系统,其中该光阻液中所沈淀之杂质系指一气泡。5.如申请专利范围第1项所述之光阻供应系统,其中该光阻瓶系以一倾斜方式放置,使得该输出端处于该最底点以利该光阻液能完全从该光阻瓶中流出。6.如申请专利范围第1项所述之光阻供应系统,其中该扰流装置系用以使该光阻瓶之该光阻液在该第一过滤器内产生回流。7.如申请专利范围第1项所述之光阻供应系统,其中该第一过滤器更连接一第二过滤器,以再次滤除残余之杂质。8.一种光阻供应系统,系应用于一半导体制程中,其包含:一光阻瓶,其具有一输入端以通入一惰性气体,及一输出端可于该惰性气体加压而输出一光阻液;一第一过滤器,与该光阻瓶之该输出端连接,以滤除该光阻液中所沈淀之杂质,其中该第一过滤器包括:一扰流装置,其位于该第一过滤器内,系由复数个循环闸所组成;以及复数个排气闸,其位于该等循环闸之出口,用以排除该第一过滤器内之气泡。9.如申请专利范围第8项所述之光阻供应系统,其中该惰性气体系指一氮气(N2)。10.如申请专利范围第8项所述之光阻供应系统,其中该光阻液中所沈淀之杂质系为一种粒子。11.如申请专利范围第8项所述之光阻供应系统,其中该光阻液中所沈淀之杂质系指一气泡。12.如申请专利范围第8项所述之光阻供应系统,其中该光阻瓶系以一倾斜方式放置,使得该输出端处于该最底点以利该光阻液能完全从该光阻瓶中流出。13.如申请专利范围第12项所述之光阻供应系统,其中该扰流装置系用以使该光阻瓶之该光阻液在该第一过滤器内产生回流。14.如申请专利范围第8项所述之光阻供应系统,其中该第一过滤器更连接一第二过滤器,以再次滤除残余之杂质。图式简单说明:图一:习用之光阻供应系统。图二:本案较佳实例之光阻供应系统之剖析图。 |
