发明名称 发光装置
摘要 一种发光装置,包括一光源集中块以及一灯管。此光源集中块包括一集中块本体与一反射材料。此集中块本体具有一弧形凹槽,反射材料形成于此弧形凹槽之槽壁上。灯管系以与弧形凹槽嵌合之方式设置于光源集中块上,部分之灯管的管身系被反射材料所包覆。
申请公布号 TWI235353 申请公布日期 2005.07.01
申请号 TW093104157 申请日期 2004.02.19
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 蔡宜轩
分类号 G09G5/00 主分类号 G09G5/00
代理机构 代理人 林素华 台北市信义区忠孝东路5段510号22楼之2
主权项 1.一种发光装置,包括:一光源集中块,包括:一集中块本体,具有一弧形凹槽;及一反射材料,系形成于该弧形凹槽之槽壁上;以及一灯管,系以与该弧形凹槽嵌合之方式设置于该光源集中块上,部分之该灯管的管身系被该反射材料包覆。2.如申请专利范围第1项所述之发光装置,其中该集中块本体包括:一第一集中块本体,具有相连接之一第一接合面及一第一凹面;及一第二集中块本体,具有相连接之一第二接合面及一第二凹面,该第二接合面用以与该第一接合面连接,使得该第二凹面及该第一凹面形成该弧形凹槽之槽壁。3.如申请专利范围第2项所述之发光装置,其中该反射材料包括:一第一反射材料,系形成于该第一凹面上;及一第二反射材料,系形成于该第二凹面上。4.如申请专利范围第1项所述之发光装置,其中该集中块本体之材质为压克力(Polymethylmethacrylic,PMMA)。5.如申请专利范围第1项所述之发光装置,其中该反射材料为金属。6.一种背光模组,包括:一框架,其顶面系形成一容置槽;以及一发光装置,系设置于该容置槽中,该发光装置包括:一光源集中块,包括:一集中块本体,具有一弧形凹槽;及一反射材料,系形成于该弧形凹槽之槽壁上;及一灯管,系以与该弧形凹槽嵌合之方式设置于该光源集中块上,部分之该灯管的管身系被该反射材料包覆。7.如申请专利范围第6项所述之背光模组,其中该集中块本体包括:一第一集中块本体,具有相连接之一第一接合面及一第一凹面;及一第二集中块本体,具有相连接之一第二接合面及一第二凹面,该第二接合面用以与该第一接合面连接,使得该该第二凹面及该第一凹面形成该弧形凹槽之槽壁。8.如申请专利范围第7项所述之背光模组,其中该反射材料包括:一第一反射材料,系形成于该第一凹面上;及一第二反射材料,系形成于该第二凹面上。9.如申请专利范围第6项所述之背光模组,其中该光源集中块之材质为压克力。10.如申请专利范围第6项所述之背光模组,其中该反射材料为金属。11.如申请专利范围第6项所述之背光模组,其中该背光模组更包括一多层光学膜。该多层光学膜系以封住该容置槽之开口之方式设置于该框架之顶面上,并位于该发光装置之上方。12.一种背光模组,包括:一框架,具有一框架底板及一框架侧板;一反射板,系设置于该框架底板上;一导光板,系设置于该反射板上;一反射罩(reflector),系设置于该框架侧板及该导光板之侧面之间,该反射罩具有一反射罩底板、一反射罩侧板及一反射罩顶板,该反射罩侧板系连接该反射罩底板及该反射罩顶板,该反射罩底板、该反射罩侧板及该反射罩顶板系形成一反射罩凹槽,该反射罩凹槽之开口系面向该导光板,该反射罩顶板之底面的一侧系与该导光板之顶面的一侧接触;以及一发光装置,系设置于该反射罩凹槽中,该发光装置包括:一光源集中块,包括:一集中块本体,具有一弧形凹槽,该弧形凹槽之开口系面向该导光板之侧面;及一反射材料,系形成于该弧形凹槽之槽壁上;及一灯管,系以与该弧形凹槽嵌合之方式设置于该光源集中块上,部分之该灯管的管身系被该反射材料包覆,该灯管之光线系经由该导光板之侧面进入该导光板中。13.如申请专利范围第12项所述之背光模组,其中该集中块本体包括:一第一集中块本体,具有相连接之一第一接合面及一第一凹面;及一第二集中块本体,具有相连接之一第二接合面及一第二凹面,该第二接合面用以与该第一接合面连接,使得该该第二凹面及该第一凹面形成该弧形凹槽之槽壁。14.如申请专利范围第13项所述之背光模组,其中该反射材料包括:一第一反射材料,系形成于该第一凹面上;及一第二反射材料,系形成于该第二凹面上。15.如申请专利范围第12项所述之背光模组,其中该光源集中块之材质为压克力。16.如申请专利范围第12项所述之背光模组,其中该反射材料为金属。图式简单说明:第1图绘示乃传统之萤光灯管的剖面图。第2图绘示乃依照本发明之实施例一之背光模组的剖面图。第3图绘示乃第2图之发光装置的立体爆炸图。第4图绘示乃依照本发明之实施例二之光源集中块的剖面图。第5图绘示乃依照本发明之实施例三之背光模组的剖面图。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号