显示装置及其制造方法

摘要

本发明系测量形成在基板上的非晶矽膜的平均膜厚之后，照射雷射光在该非晶矽膜后，测量以该照射而结晶化的多晶矽膜的粒径分布，从多晶矽膜的2点A、B的粒径的测定值计算出适当的雷射光照射能量密度值，然后测量其次的非晶矽膜的平均膜厚，从该平均膜厚与前1个非晶矽膜的平均膜厚计算出照射的能量密度值，并且将该能量密度值回送至雷射光照射系统。如上述，对应形成在基板上的矽膜膜厚，藉由控制每次应照射的雷射光照射能量，而可以在大型基板上遍及基板全面形成均匀且大粒径的多晶矽，其结果可以在大面积上形成多晶矽TFT。