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经营范围
发明名称
研磨组成物及研磨方法
摘要
本发明系提供一种研磨组成物,可以抑制浸蚀、冲蚀,特别是在维持金属膜的平坦性之同时,可以高速度研磨,其特征为含有:(A)分子中含有3个以上唑基之化合物;(B)氧化剂;以及(C)1种或2种以上选自于胺基酸、有机酸、无机酸者。
申请公布号
TW200521217
申请公布日期
2005.07.01
申请号
TW093135001
申请日期
2004.11.15
申请人
昭和电工股份有限公司
发明人
鱼谷信夫;高桥浩;佐藤孝志;佐藤元
分类号
C09K3/14;B24B7/24;H01L21/304
主分类号
C09K3/14
代理机构
代理人
何金涂;何秋远
主权项
地址
日本
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