发明名称 研磨组成物及研磨方法
摘要 本发明系提供一种研磨组成物,可以抑制浸蚀、冲蚀,特别是在维持金属膜的平坦性之同时,可以高速度研磨,其特征为含有:(A)分子中含有3个以上唑基之化合物;(B)氧化剂;以及(C)1种或2种以上选自于胺基酸、有机酸、无机酸者。
申请公布号 TW200521217 申请公布日期 2005.07.01
申请号 TW093135001 申请日期 2004.11.15
申请人 昭和电工股份有限公司 发明人 鱼谷信夫;高桥浩;佐藤孝志;佐藤元
分类号 C09K3/14;B24B7/24;H01L21/304 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本