奈米粒子之制备方法

摘要

本发明提供一种奈米粒子之制备方法，其包括下列步骤：提供一基底；于该基底上形成一牺牲层；于该牺牲层上形成一欲制备成奈米粒子之材质层；于该材质层上形成一光阻剂层；将所需之奈米图样转印于光阻剂层；将材质层蚀刻出所需之奈米图样；除去光阻剂层及牺牲层，过滤出奈米粒子。本发明系利用深次微米微影蚀刻技术制备奈米粒子，由于该方法所获得之奈米粒子系由微影蚀刻所控制，故可确保该奈米粒子具有预定之形状及大小，且其形状及大小之单一性亦非常高。