发明名称 发光二极体之测试结构及其制造方法
摘要 本发明提出一种发光二极体之测试结构及其制造方法,首先提供一基板,并形成一磊晶层在基板上表面,接着形成一金属层在磊晶层上表面,并对基板进行研磨,并在研磨基板后再蚀刻基板,以移除基板而剩下磊晶层及金属层,接着在磊晶层下表面接合数电极,且进行反转,使金属层位于最下层,最后形成一测试层在金属层下表面,以形成一发光二极体之测试结构。本发明可提高发光二极体之亮度,可降低成本,且可提高散热性及元件测试良率。
申请公布号 TWI235510 申请公布日期 2005.07.01
申请号 TW093123178 申请日期 2004.08.03
申请人 鹏正企业股份有限公司 发明人 许志铭
分类号 H01L33/00;H01L21/66 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人 林火泉 台北市大安区忠孝东路4段311号12楼之1
主权项 1.一种发光二极体之测试结构,包括: 一磊晶层; 数电极,其系设置于该磊晶层上表面; 一金属层,其系设置于该磊晶层下表面;以及 一测试层,其系设置于该金属层下表面。 2.如申请专利范围第1项所述之发光二极体之测试 结构,其中,该测试层系选自单针底座及导电胶其 中之一者。 3.一种发光二极体之测试结构之制造方法,其步骤 包括: 提供一基板; 形成一磊晶层在该基板上表面; 形成一金属层在该磊晶层上表面; 研磨该基板; 蚀刻该基板,以移除该基板而剩下该磊晶层及该金 属层; 在该磊晶层下表面接合数电极; 进行反转,以使该金属层位于最下层;以及 形成一测试层于该金属层下表面,以形成一发光二 极体之测试结构。 4.如申请专利范围第3项所述之发光二极体之测试 结构之制造方法,其中,系对其中一该电极及该测 试层进行电气特性测试。 5.如申请专利范围第3项所述之发光二极体之测试 结构之制造方法,其中,在研磨该基板之步骤中,系 研磨该基板至1~5微米。 图式简单说明: 第1图为习知测试发光二极体之各步骤之结构剖视 图。 第2图为本发明之发光二极体之测试结构之结构剖 视图。 第3图本发明之发光二极体之测试结构之另一实施 例。 第4(a)图至第4(g)图为第2图之各步骤结构剖视图。
地址 桃园县芦竹乡芦兴街91号