发明名称 含透明基质和扩散层之扩散膜
摘要 一种扩散膜包括透明基质和扩散层。此扩散层显示以测角光度计测量之特定散射光外形。在此散射光外形中,30°角散射光之强度对0°角穿透光之强度之比例为0.01至0.2%。
申请公布号 TWI235253 申请公布日期 2005.07.01
申请号 TW091123426 申请日期 2002.10.11
申请人 富士照相软片股份有限公司 发明人 伊藤洋士;藤原功;安藤工
分类号 G02B5/02;G02B5/30;G02B1/11 主分类号 G02B5/02
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种扩散膜,其包括透明基质和扩散层,其中扩散 层显示以测角光度计测量为30角散射光之强度对0 角穿透光之强度之比例为0.01至0.2%之散射光外形 。 2.如申请专利范围第1项之扩散膜,其中扩散层显示 以测角光度计测量为60角散射光之强度对0角穿 透光之强度之比例不大于0.02%之散射光外形。 3.如申请专利范围第1项之扩散膜,其中扩散层具有 40至90%范围之总雾値。 4.如申请专利范围第1项之扩散膜,其中扩散层具有 30至80%范围之内扩散雾値。 5.如申请专利范围第1项之扩散膜,其中扩散层具有 以30角测量为30至95%之雾値。 6.如申请专利范围第1项之扩散膜,其中扩散层包括 透明树脂和透明细粒,该透明细粒具有异于该透明 树脂折射率之折射率。 7.如申请专利范围第6项之扩散膜,其中透明树脂与 透明细粒间之折射率差异较佳为0.02至0.20之范围 。 8.如申请专利范围第6项之扩散膜,其中细粒包括具 有0.5至2.0微米范围之粒度之相对小颗粒及具有2.5 至5.0微米范围之粒度之相对大颗粒。 9.如申请专利范围第1项之扩散膜,其中扩散层具有 层表面角分布之平均角度为1.5至5范围之粗表面 。 10.如申请专利范围第1项之扩散膜,其中扩散层具 有层表面角分布之最大峰为0.4至1.4范围之粗表面 。 11.如申请专利范围第1项之扩散膜,其中扩散层具 有表面粗度为0.05至0.18微米范围之粗表面。 12.如申请专利范围第1项之扩散膜,其中透明基质 为光学各向异性聚合物膜。 13.如申请专利范围第12项之扩散膜,其中光学各向 异性聚合物膜具有0至200奈米范围之Re阻滞値,及70 至500奈米范围之Rth阻滞値。 14.一种偏光板,其包括一对保护膜及提供于膜间之 偏光薄膜,其中保护膜之一为如申请专利范围第1 项之扩散膜。 15.如申请专利范围第14项之偏光板,其中偏光板更 包括由液晶化合物形成之光学各向异性层,及此板 依序包括扩散膜、偏光薄膜与光学各向异性层。 16.如申请专利范围第15项之偏光板,其中液晶化合 物为碟状化合物。 17.一种防反射膜,其依序包括透明基质、扩散层与 低折射率层,其中扩散层显示以测角光度计测量为 30角散射光之强度对0角穿透光之强度之比例为0. 01至0.2%之散射光外形,及其中在450至650奈米之波长 区域,5角入射光之平均镜面反射度不大于2.5%。 18.一种偏光板,其包括一对保护膜及提供于保护膜 间之偏光薄膜,其中保护膜之一为如申请专利范围 第17项之防反射膜。 19.一种影像显示装置,其具有以如申请专利范围第 1项之扩散膜覆盖之显示器表面。 图式简单说明: 第1图为略示地描述扩散膜之基本结构之横切面图 。 第2图为略示地描述另一种扩散膜之基本结构之横 切面图。 第3图为实例2制备之扩散膜(A-02)之散射光外形。
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