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发明名称 Method of etching silicon nitride film
摘要
申请公布号 KR100497609(B1) 申请公布日期 2005.07.01
申请号 KR20030012772 申请日期 2003.02.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/311;H01L21/302;H01L21/461;H01L21/76;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/311 主分类号 H01L21/311
代理机构 代理人
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