| 摘要 |
<P>La présente invention concerne un dispositif (100) pour déposer une couche à base de silicium polycristallin sur un support (4) mobile, allongé et sensiblement plan, comportant :- un creuset (1) contenant un bain (2) de silicium fondu,- ledit support (4) qui comporte deux faces longitudinales (43, 44) et deux bords latéraux longitudinaux (41, 42), ledit support étant plongé au moins partiellement dans le bain et traversant sensiblement verticalement dans le sens de la longueur du support allongé la surface d'équilibre (21) du bain ,- deux éléments de contrôle des bords (5, 5'), maintenus sensiblement verticalement de part et d'autre des deux bords latéraux longitudinaux (41,42),chacun desdits éléments de contrôle des bords comportant des parois (51 à 53') délimitant une ouverture longitudinale (54, 54') qui borde l'un distinct des bords latéraux longitudinaux, l'ouverture étant partiellement plongée dans le bain (2) de façon à élever le niveau du bain par capillarité à proximité des bords latéraux longitudinaux,caractérisé en ce que les deux parois (51 à 52'), dites d'insertion, qui sont partiellement en regard des faces longitudinales sont planes.</P>
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