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经营范围
发明名称
METHOD FOR OPERATING SPUTTERING EQUIPMENT IN MANUFACTURING SEMICONDUCTOR
摘要
申请公布号
KR100498602(B1)
申请公布日期
2005.07.01
申请号
KR19990028417
申请日期
1999.07.14
申请人
发明人
分类号
H01L21/02;(IPC1-7):H01L21/02
主分类号
H01L21/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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