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发明名称 Photosensitive polymer including fluorine, resist composition containing the same and pattern formation method using the resist composition
摘要
申请公布号 KR100498464(B1) 申请公布日期 2005.07.01
申请号 KR20020073051 申请日期 2002.11.22
申请人 发明人
分类号 G03F7/004;G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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