发明名称 Improvements in semiconductor devices and method of fabricating the same
摘要 An alloy used in making tunnel diodes (see Group XXXVI) consists of indium containing 2% atomic of gallium.
申请公布号 GB914832(A) 申请公布日期 1963.01.09
申请号 GB19600042471 申请日期 1960.12.09
申请人 GENERAL ELECTRIC COMPANY 发明人
分类号 A22C21/02;H01L21/00;H01L21/3063;H01L21/308;H01L29/00 主分类号 A22C21/02
代理机构 代理人
主权项
地址