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发明名称 REAKTOR ZUR RADIOFREQUENZ BETRIEBENEN PLASMA-AKTIVIERTEN CHEMISCHEN DAMPFABSCHEIDUNG UND VERFAHREN
摘要
申请公布号 DE69918063(T2) 申请公布日期 2005.06.30
申请号 DE19996018063T 申请日期 1999.02.16
申请人 MICRON TECHNOLOGY, INC.;APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 SHARAN, SUJIT;SANDHU, S.;SMITH, PAUL
分类号 C23C16/509;C23C16/505;H01J37/32;H01L21/205;H05H1/46;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 C23C16/509
代理机构 代理人
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