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Ein optisches System, z. B. ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, weist mindestens ein refraktiv wirkendes optisches Element (L1 bis L16, 15, 24) auf, das aufgrund von Materialspannungen optisch doppelbrechend ist. Das optische System (10) hat außerdem mindestens ein optisches Korrekturelement (K1, K2) aus einem intrinsisch doppelbrechenden Material. Die Kristallorientierung des Materials ist so gewählt, daß die Richtungsverteilung der von dem Korrekturelement (K1, K2) hervorgerufenen Doppelbrechung im wesentlichen senkrecht auf der Richtungsverteilung der Doppelbrechung steht, die durch das mindestens eine optische Element (L1 bis L16, 15, 16, 24) hervorgerufen wird. Auf diese Weise werden Verzögerungen, die durch die spannungsinduzierte Doppelbrechung des mindestens einen optischen Elements (L1 bis L16, 15, 24) hervorgerufen werden, verringert oder sogar vollständig kompensiert.
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