发明名称 |
EXPOSURE CALCULATION METHOD AND RADIOGRAPHY SYSTEM |
摘要 |
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申请公布号 |
KR20050067066(A) |
申请公布日期 |
2005.06.30 |
申请号 |
KR20040112072 |
申请日期 |
2004.12.24 |
申请人 |
GE MEDICAL SYSTEMS GLOBAL TECHNOLOGY COMPANY, LLC |
发明人 |
MUNGILWAR NARESH |
分类号 |
A61B6/00;G01T1/00;G21K1/04;H05G1/30;H05G1/38;H05G1/42;(IPC1-7):A61B6/00 |
主分类号 |
A61B6/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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