差别注入式材料处理系统

摘要

描述了一种包括沉积源的差别注入式沉积系统，该沉积源，如磁控管溅射源，置于第一小室。沉积源生成包括中性原子和分子的沉积流，限定孔的屏蔽物置于沉积流的路径上。屏蔽物使沉积流通过孔，并阻止沉积流越过屏蔽物的范围。基片承载器置于邻近屏蔽物的第二小室。第二小室中的压力低于第一小室的压力。双扫描系统按照第一和第二运动相对于孔扫描基片承载器，因而提高了沉积薄膜的均匀性。

主权项

1.一种差别注入式沉积系统，包括：a.置于第一小室的沉积源，该沉积源产生包括中性原子和分子的沉积流；b.限定位于沉积流路径中的孔的屏蔽物，该屏蔽物使沉积流通过孔，并在其它各处显著阻挡沉积流传播通过屏蔽物；c.置于邻近屏蔽物的第二小室中的基片承载器；第二小室中的压力低于第一小室中的压力；d.双扫描系统，用于按照旋转运动和平移运动相对于孔扫描基片承载器。