发明名称 |
电镀和/或电抛光晶片的电镀和/或电抛光台以及方法 |
摘要 |
本发明涉及一种用于电镀和/或电抛光晶片的电镀和/或电抛光台和方法,该电镀和/或电抛光台包含:一个机架;至少一个装在机架上的电镀和/或电抛光槽,所述电镀和/或电抛光槽具有电解液容器以及适当形成的用以盖在所述电解液容器上的盖板;以及盖板提升组件,被构造成使所述盖板在第一位置和第二位置间移动,其中所述盖板在所述第一位置时盖在所述电解液容器上,而当在所述第二位置时,所述盖板从所述电解液容器上被提起。 |
申请公布号 |
CN1632914A |
申请公布日期 |
2005.06.29 |
申请号 |
CN200510003773.6 |
申请日期 |
1999.11.24 |
申请人 |
ACM研究公司 |
发明人 |
王辉;费利克斯·故特曼;沃哈·努克 |
分类号 |
H01L21/00;H01L21/68;C25D7/12 |
主分类号 |
H01L21/00 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
付建军 |
主权项 |
1.一种用于电镀和/或电抛光晶片的电镀和/或电抛光台,包含:一个机架;至少一个装在机架上的电镀和/或电抛光槽,所述电镀和/或电抛光槽具有电解液容器以及适当形成的用以盖在所述电解液容器上的盖板;以及盖板提升组件,被构造成使所述盖板在第一位置和第二位置间移动,其中所述盖板在所述第一位置时盖在所述电解液容器上,而当在所述第二位置时,所述盖板从所述电解液容器上被提起。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |