发明名称 |
直流电弧等离子体化学气相沉积装置及金刚石涂层方法 |
摘要 |
本发明提供了直流电弧等离子体化学气相沉积装置及金刚石涂层方法。该涂层装置由阴极部分、阳极、真空室、真空泵系统、压力测控装置、直流电弧弧柱、制品架、电源、磁场线圈组成;阴极部分(1)和阳极(8)处于圆桶状真空室(2)轴线的两端;一对磁场线圈(12)、(13)同轴地处于真空室(2)外的上下两侧;真空室(2)与真空泵系统(3)、压力测量和控制装置(4)由真空管路相连接。阴极部分(1)由阴极杆(6)、阴极体(7)、保护气体通道体(14)、反应气体通道体(15)以及绝缘体(17)、(18)所组成;在保护气体通道体(14)、反应气体通道体(15)的下方是阴极喷口(16)。本发明的优点在于:寿命与结构稳定性将大幅度的改善并可靠性提高,显著的改善金刚石涂层质量。 |
申请公布号 |
CN1632166A |
申请公布日期 |
2005.06.29 |
申请号 |
CN200410101845.6 |
申请日期 |
2004.12.28 |
申请人 |
北京科技大学 |
发明人 |
唐伟忠;李成明;吕反修;陈广超;佟玉梅;宋建华;刘素田 |
分类号 |
C23C16/503;C23C16/27 |
主分类号 |
C23C16/503 |
代理机构 |
北京科大华谊专利代理事务所 |
代理人 |
刘月娥 |
主权项 |
1、一种强电流直流电弧等离子体化学气相沉积装置,由阴极部分、阳极、真空室、真空泵系统、压力测控装置、直流电弧弧柱、制品架、电源、磁场线圈组成;其特征在于:阴极部分(1)和阳极(8)处于圆桶状真空室(2)轴线的两端;一对磁场线圈(12)、(13)同轴地处于真空室(2)外的上下两侧;真空室(2)与真空泵系统(3)、压力测控装置(4)由真空管路相连接。 |
地址 |
100083北京市海淀区学院路30号 |