发明名称 | 微影制程的焦距检测方法 | ||
摘要 | 本发明公开一种微影制程的焦距检测方法。首先,在一光罩上形成大体平行排列的复数线条图案,藉由此光罩在一形成有光阻层的晶图上进行曝光,以在光阻层上形成复数个曝光区,其中每一曝光区系对应使用一曝光焦距。随后,对光阻层进行显影,以在晶圆上形成具有线条图案的复数图案区。然后,将具有上述图案区的晶圆置入一光学仪器中,并观测由每一曝光焦距对应形成的图案区中的线条线宽变化。最后,依据线宽变化及其对应的曝光焦距定出焦距允收范围(focus latitude)。 | ||
申请公布号 | CN1208692C | 申请公布日期 | 2005.06.29 |
申请号 | CN02120604.X | 申请日期 | 2002.05.23 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 雍镇诚;杨长浩 |
分类号 | G03F7/20 | 主分类号 | G03F7/20 |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 戴元毅 |
主权项 | 1、一种微影制程的焦距检测方法,其特征在于至少包括下列步骤:在一光罩上形成一测试图案,所述测试图案是大体横向平行排列的复数线条及大体纵向平行排列的复数线条的任一种;藉由上述光罩在一形成有光阻层的基底上进行曝光,以在上述光阻层上形成复数个曝光区,其中每一上述曝光区系对应使用一曝光焦距;对上述光阻层进行显影,以在上述基底上形成具有上述测试图案的复数图案区;检测每一上述图案区以定出焦距的允收范围,所述检测每一上述图案区,至少包括下列步骤:将具有上述图案区的基底置入一光学仪器中;观测由每一上述曝光焦距对应形成的上述图案区中的上述线条的线宽变化;以及依据上述线宽变化及对应的上述曝光焦距定出焦距允收范围。 | ||
地址 | 台湾省新竹科学工业园区 |