| 发明名称 | 光催化剂膜形成用组合物以及带有光催化剂膜的基材 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种对基材的表面具有优异的亲水性的光催化剂膜形成用组合物，特别提供能形成污物分解性强、亲水性的耐久性良好的光催化剂膜的光催化剂膜形成用组合物，并提供亲水性优异的带有光催化剂膜的基材。光催化剂膜形成用组合物包括光催化剂(二氧化钛等)、特定的二氧化硅前体(是相对于100质量份的硅酸，碱金属离子为0.001－1质量份的硅酸化合物，例如采用离子交换树脂从硅酸苏打中将钠离子减少而成的化合物)以及介质。 | ||
| 申请公布号 | CN1633480A | 申请公布日期 | 2005.06.29 |
| 申请号 | CN03803822.6 | 申请日期 | 2003.02.13 |
| 申请人 | 旭硝子株式会社 | 发明人 | 米田贵重;真田恭宏;宫本真奈美;加藤朱美 |
| 分类号 | C09D5/16;C09D7/12;C09D183/00 | 主分类号 | C09D5/16 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 胡烨 |
| 主权项 | 1.光催化剂膜形成用组合物，其特征在于，包括光催化剂半导体微粒、下述二氧化硅前体和介质，二氧化硅前体是相对于100质量份的硅酸，含有0.001-1质量份的碱金属离子的硅酸化合物。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||