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发明名称 METHOD FOR FORMING INTERMETALLIC DIELECTRIC WITH LOW-DIELECTRIC CONSTANT
摘要
申请公布号 KR20050064427(A) 申请公布日期 2005.06.29
申请号 KR20030095788 申请日期 2003.12.23
申请人 DONGBU ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 KIM, SEUNG HYUN;KIM, WAN SHICK
分类号 H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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