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发明名称 PHOTORESIST PATTERN-FORMING METHOD
摘要
申请公布号 KR20050063337(A) 申请公布日期 2005.06.28
申请号 KR20030094729 申请日期 2003.12.22
申请人 MAGNACHIP SEMICONDUCTOR, LTD. 发明人 CHOI, JAE SUNG
分类号 H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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