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发明名称 METHOD FOR FORMING THREE-LAYERED PHOTORESIST PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20050062921(A) 申请公布日期 2005.06.28
申请号 KR20030093922 申请日期 2003.12.19
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 BOK, CHEOL KYU;LEE, GEUN SU;LEE, SUNG KOO
分类号 H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
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