PROCESS FOR PRODUCING STRUCTURAL BODY AND ETCHANT FOR SILICON OXIDE FILM,申请号KR20040109717-传众专利搜索

发明名称	PROCESS FOR PRODUCING STRUCTURAL BODY AND ETCHANT FOR SILICON OXIDE FILM
摘要
申请公布号	KR20050063720(A)	申请公布日期	2005.06.28
申请号	KR20040109717	申请日期	2004.12.21
申请人	MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.;SONY CORPORATION	发明人	SAGA KOICHIRO;WATANABE HIROYA;AZUMA TOMOYUKI
分类号	B81B3/00;B81C1/00;C09K13/08;H01L21/304;H01L21/308;H01L29/84;(IPC1-7):H01L21/306;H01L21/31	主分类号	B81B3/00
代理机构		代理人
主权项
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