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Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Erzeugen eines Abbildungsfehler vermeidenden Maskenlayouts (20') für eine Maske (10), bei dem ein OPC-Verfahren (250) eingesetzt wird. DOLLAR A Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs genannten Art dahingehend zu verbessern, dass Abbildungsfehler durch Nachbarschaftseffekte noch besser als zuvor reduziert werden. DOLLAR A Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass vor der Durchführung des OPC-Verfahrens (250) aus einem vorläufigen Hilfsmaskenlayout (110) zunächst ein modifiziertes Hilfsmaskenlayout (220) gebildet wird, indem in einem ersten Modifikationsschritt (130) die Maskenstrukturen (100) des vorläufigen Hilfsmaskenlayouts (110) unter Bildung veränderter Maskenstrukturen (110') gemäß einem vorgegebenen Regelsatz vergrößert, insbesondere verbreitert, oder verkleinert werden und anschließend die veränderten Maskenstrukturen (110') gemäß vorgegebener Platzierungsregeln (130) um optisch nicht auflösbare Hilfsstrukturen (150) unter Bildung des modifizierten Hilfsmaskenlayouts (200) ergänzt werden und das Maskenlayout (20') mit dem OPC-Verfahren (250) unter Heranziehung des modifizierten Hilfsmaskenlayouts (200) erzeugt wird. |
