| 主权项 |
1.一种于流体样本中决定分析物浓度的方法,该方法包含:(a)将该样本与一含有讯号产生系统之基质(matrix)接触,该讯号产生系统系于该基质表面产生与样本中分析物量成正比之有颜色的产物;(b)以一光源装置对该基质之该表面照光;(c)以一侦测装置收集来自该表面之光,以获得一最佳光学量度;以及(d)由该光学量度中决定该样本中之该分析物浓度,系利用来自该光源装置或该光收集装置之温度値进行演算而得。2.如专利申请范围第1项之方法,其中该收集步骤(c)包含收集反射光,且该光学量度为一反射系数量度。3.如专利申请范围第1项或第2项之方法,其中该温度値至少一次于取得该反射系数量度之前、期间及之后取得。4.如专利申请范围第1项或第2项之方法,其中该温度値至少一次于取得该反射系数量度之前、期间或之后取得。5.如专利申请范围第1项或第2项之方法,其中该光源装置为一发光二极体。6.如专利申请范围第1项或第2项之方法,其中该光收集装置为一温度敏感型光侦测仪。7.如专利申请范围第1项或第2项之方法,其中该温度値取自该光源装置。8.如专利申请范围第1项或第2项之方法,其中该温度値系于取得该反射系数量度之前、期间及之后取得。9.如专利申请范围第1项或第2项之方法,其中该温度値系于取得该反射系数量度之前、期间或之后取得。10.如专利申请范围第1项或第2项之方法,其中该基质为一试剂测试带组件。11.如专利申请范围第1项或第2项之方法,其中该分析物为葡萄糖。12.一种用以测量流体样本中分析物浓度之装置,系依据专利申请范围第1项至第11项中任一项所述之方法,该装置包含:(a)一腔室,用以可移除地承接包含一具孔洞基质垫之试剂测试带,该具孔洞基质软垫为(i)具一第一主要表面,用以承接该样本;以及一反射用第二主要表面,位于该第一表面之对面,(ii)可允许样本由该第一表面通过该软垫往第二表面移动,以及(iii)注入一种或多种讯号产生系统之试剂,其与分析物反应以引起该第二表面的反射系数之改变;(b)光源装置,用以对腔室中该软垫之第二表面照光;(c)侦测装置,用以监测由腔室中该软垫之第二表面所反射之光强度;以及(d)由反射光强度计算分析物浓度之装置,其中该装置包含一演算过程,可由来自该光源装置或该光收集装置之温度値进行演算而得,其中该演算过程系纪录于一该装置之电脑可读取媒介组件中。图式简单说明:图1为施有待分析流体之含有反应软垫或基质测试带之侧示图。图2为本发明实施该装置之块状图示。 |
