回转基座之改良

摘要

本创作系提供一种回转基座之改良，该回转基座系包括有一底座及一华司所组成，以适用于办公设备设有气压棒之办公座椅；而该底座具有一轴孔，为供轴向元件穿置，并于顶端设有环凹槽，且于底端设置于定位元件上；该华司系相对装设于底座上，受轴向元件压制，而该华司之外径大于底座之作用面；藉由上述，使两者结合设立于轴向元件与定位元件之间于作动下，可有效避免噪音之产生及降低成本，且该华司大于底座之设计，如此其受力处位靠轴心处，使华司与底座接触面积小，俾使旋转实施更为顺畅者。

主权项

1.一种回转基座之改良,该回转基座系包括有一底座及一华司所组成;其中,该底座具有一轴孔,并于顶端设有环凹槽;该华司系相对装设于底座顶端,且其外径大于底座;藉由华司及底座之结合设立,俾有效避免噪音之产生,并使旋转实施顺畅者。2.如申请专利范围第1项所述回转基座之改良,其中,该底座之环凹槽可添加定量之黄油。3.如申请专利范围第1项所述回转基座之改良,其中,该底座之环凹槽可为两道环凹槽设立为最佳。4.如申请专利范围第1项、第2项或第3项所述回转基座之改良,其中,该环凹槽之断面底部可呈圆弧形。5.如申请专利范围第1项、第2项或第3项所述回转基座之改良,其中,该底座于环凹槽径向处设有凹沟。6.如申请专利范围第1项所述回转基座之改良,其中,该底座于周壁至顶端之间形成有向上渐缩之切缘,且使华司外径大于底座顶端之表面外径。图式简单说明:第一图:习知运用办公座椅之结构示意图第二图:习知之其一结构分解图第三图:习知之其二结构组设示意图第四图:习知之其三结构分解图第五图:本创作之结构分解图第六图:本创作结构底部立体图第七图:本创作结构组设示意图第八图:本创作另一造型示意图第九图:本创作另一造型之底部示意图第十图:本创作另二造型示意图第十一图:本创作另二造型之底部示意图