发明名称 立体图案构造
摘要 本创作系有关于一种立体图案构造,尤指一种可利用高周波模具压制出之立体图案构造,其主要系将一原材剪裁成一适当尺寸之基材,并经适度之力道拉扯后,再藉由高周波模具之夹合力道,而于基材之第一表面压制出所设计之立体图案,接续,于基材之第二表面涂附一接合层,再利用高周波熔接方式将一透明TPU披覆于第一表面之上,而使得立体图案与其它剩余基材进行剥离程序时,仍可有效保持立体图案各组成元件彼此之间距及完整性,且,可有效避免因为高周波模具之工作电压突波而产生火花及损伤立体图案,因此可增进其产品美观效果者。
申请公布号 TWM268194 申请公布日期 2005.06.21
申请号 TW093214391 申请日期 2004.09.09
申请人 王锦灿 发明人 王锦灿
分类号 B44C1/18 主分类号 B44C1/18
代理机构 代理人 张秀夏 台北市大安区敦化南路2段38号9楼
主权项 1.一种立体图案构造,其主要系包括有:一由一电镀层与一TPU层所组成之基材,且该电镀层之外表面系定义为该基材之第一表面,而该TPU层之外表面系定义为该基材之第二表面,经由一力道之拉扯而在该第一表面形成有至少一个细微间隙,且压制该基材之第一表面以形成至少一立体图案。2.如申请专利范围第1项所述之立体图案构造,尚设有一透光层,位于该第一表面。3.如申请专利范围第2项所述之立体图案构造,其中该透光层系由一TPU材质所制成者。4.如申请专利范围第1项所述之立体图案构造,尚设有一接合层,位于该第二表面。5.如申请专利范围第4项所述之立体图案构造,其中该接合层系由一含矽胶成份之材质所制成者。6.如申请专利范围第1项所述之立体图案构造,尚设有一保护膜,可用以包覆该基材及该立体图案,而该保护膜系可选择为一塑胶模、一贴纸、一转印纸及其组合式之其中之一。7.一种立体图案构造,其主要系包括有:一由一电镀层与一TPU层所组成之基材,且该电镀层之外表面系定义为该基材之第一表面,而该TPU层之外表面系定义为该基材之第二表面,并压制该基材之第一表面以形成至少一立体图案,且于该第一表面上设有一TPU材质之透光层。8.如申请专利范围第7项所述之立体图案构造,其中该基材之第一表面可经由一适度力道之拉扯而形成有至少一细微间隙。9.如申请专利范围第7项所述之立体图案构造,尚设有一接合层,位于该基材之第二表面。10.如申请专利范围第9项所述之立体图案构造,其中该接合层系为一含矽胶成份之材质所制成者。11.如申请专利范围第7项所述之立体图案构造,尚设有一保护膜,可用以包覆该基材及该立体图案,而该保护膜系可选择为一塑胶模、一贴纸、一转印纸及其组合式之其中之一。图式简单说明:第1图:习知立体图案受到火花损伤之构造示意图;第2图:系本创作一较佳实施例之构造剖面示意图;第3图:系本创作一较佳实施例之制造方法之流程图;第4图:系本创作一较佳实施例之整捆基材之示意图;第5图:系本创作一较佳实施例之剪裁基材之示意图;第6图:系本创作一较佳实施例之拉扯基材之示意图;第6A图:系本创作一较佳实施例之拉扯基材产生微小间隙之局部放大示意图;第7图:系本创作一较佳实施例之压制基材之示意图;第7A图:系本创作一较佳实施例之基材压制后之局部剖面放大示意图;第8图:系本创作一较佳实施例之去除非必要之基材之示意图;第9图:系本创作一较佳实施例涂附接合层之基材之示意图;第9A图:系本创作一较佳实施例涂附接合层之基材之局部剖面放大示意图;第10图:系本创作一较佳实施例之立体图案剥离剩余基材之示意图;第11图:系本创作一较佳实施例之保护膜包覆已剥离之立体图案之示意图;第12图:系本创作一较佳实施例之披覆透光层之基材之示意图;及第13图:系本创作另一实施例之立体图案剥离剩余基材之示意图。
地址 台北县新庄市五权一路7号5楼之10